Wafer de Silicone Monocristalino si Dupla Face Usado para Revestimento de Filme e Substrato Especial
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Ficha técnica do produto
| Características | Especificações |
|---|---|
| Origem | CN (origem) |
A amostra de polimento dupla face pode ser usada como lente infravermelha, peça de janela e outros elementos ópticos.
Especificação: 6,25 × 6,25 × 0,5mm, polimento de dupla face (espelho).
Nota: Isto é apenas para1 peça
Características: amostra pequena, mais acessível
Estilo do crescimento: tração reta
Orientação: [111] / [100]
Planicidade: <1 mícron
Resistividade: 0.001-50 ohm. Cm
Ra: <0,5 nm
Uso:
1. PVD/CVD revestimento filme como substrato; 2.
2. Usado como base para XRD, SEM, força atômica, ir e análise de fluorescência;
3. portador de radiação síncrotron amostra experimental;
4. Substrato para o crescimento epitaxy do feixe molecular;
5, processo litografia semicondutor e assim por diante.
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